| NIM | H1A010041 |
|---|
| Namamhs | ENING BUDHI RAHAYU |
|---|
| Judul Artikel | PENURUNAN KADAR FENOL LIMBAH CAIR BATIK MENGGUNAKAN METODE PROSES OKSIDASI LANJUT DALAM SISTEM H2O2/UV |
|---|
| Abstrak (Bhs. Indonesia) | Fenol merupakan salah satu senyawa organik dari buangan industri yang sulit didegradasi. Fenol dalam limbah cair industri batik banyak terkandung dalam lilin yang digunakan selama proses pembatikan. Proses oksidasi lanjut (AOPs) merupakan salah satu teknologi yang dapat digunakan untuk menurunkan kadar fenol dalam limbah cair. AOPs merupakan sistem yang didasarkan pada pembentukan radikal hidroksil (•OH). Radikal hidroksil ini mampu menguraikan senyawa-senyawa berbahaya yang bersifat nonbiodegradable dalam limbah melalui proses oksidasi. Pada penelitian ini digunakan metode AOPs dengan sistem radiasi UV, H2O2, dan H2O2/UV. Hasil penelitian menunjukkan bahwa reaksi AOPs menghasilkan waktu kontak optimum 8 jam dan konsentrasi optimum H2O2 sebesar 50 ppm. Kondisi pH terbaik yang diperoleh adalah pH 3 dengan penurunan kadar fenol mencapai 76,577 dan 83,451 %. Sistem dengan pengaruh radiasi UV menghasilkan penurunan kadar fenol yang lebih tinggi dibandingkan sistem tanpa pengaruh radiasi UV. Berdasarkan hasil uji-T, pada kondisi optimum sistem H2O2 tanpa radiasi UV dan dengan radiasi UV tidak berbeda nyata. |
|---|
| Abtrak (Bhs. Inggris) | Phenol is one of nonbiodegradable organic compound from industrial waste. Phenol in liquid waste of batik industry produced by wax during production process. Advanced Oxidation Processes (AOPs) is one technology that can be use for phenol removal in liquid waste. AOPs is a system based on hydroxil radicals (•OH) production. This hydroxil radicals can degrades recalcitrant compounds in wastewater trough oxidative degradation process. In this study, used AOPs technology with UV radiation, H2O2 and H2O2/UV system. The reaction of AOPs for phenol removal was optimum at 8 hours and 50 ppm of H2O2 concentration. The best condition of pH was 3 with phenol removal 76.577 and 83.451 %. Systems with UV radiation yield phenol removal better than systems without UV radiation. Based on T-test, system without UV radiation and with UV radiation at optimum condition were not significantly different. |
|---|
| Kata kunci | Fenol, H2O2, AOPs, limbah batik |
|---|
| Pembimbing 1 | Tien Setyaningtyas, S.Si., M.Si. |
|---|
| Pembimbing 2 | Dian Windy Dwiasi, S.Si., M.Sc. |
|---|
| Pembimbing 3 | |
|---|
| Tahun | 2015 |
|---|
| Jumlah Halaman | 62 |
|---|
| Tgl. Entri | 2015-10-06 07:02:42.903454 |
|---|